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Sunday, August 03, 2003

"La nanolithographie permet de tirer parti de l'auto-assemblage"
Le modelage de nano-�chelle de substrats de silicium avec des mod�les r�guliers, r�p�titifs, atomiquement parfaits et sp�cifiques pourrait permettre la fabrication de puces de nano-�chelle au cours de cette d�cennie, avancent certains scientifiques du cen
Audio Interview / Interview on CD
Text: http://www.eetimes.com/story/OEG20030807S0015